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  • 4NPI課題裝置改造
    4NPI課題裝置改造是一次創新性的升級，它將助力企業在快速發展的市場中把握機遇，提升新產品的研發速度和質量。隨著技術的不斷進步，我們有理由相信，這種改造將為企業帶來更大的價值。
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    更新日期

    2025-07-22
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  • 半導體材料產業化裝置
    半導體材料產業化裝置涉及到半導體制造的全過程，包括從原材料的提取到最終的封裝測試。以下是一些關鍵的產業化裝置和制造工藝： 1. **晶圓加工裝置**： - 晶圓是半導體制造的基礎，通常由高純度的單晶硅制成。晶圓加工包括鑄錠和錠切割，將高純硅熔化成液體，再凝固成單晶固體形式，稱為“錠”，然后切割成一定厚度的薄片。 2. **氧化裝置**： - 氧化過程在晶圓表面形成一層薄的二氧化
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    更新日期

    2024-12-17
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  • 連續式濕式氧化實驗平臺
    連續式濕式氧化實驗平臺，具有耐壓、耐腐蝕、耐一定溫度的特性。攪拌方式為環形永磁驅動靜密封，攪拌力強，無泄露。適用于石油，化工，制藥，染料，軍工，礦冶，食品等行業的科研院所，和大專院校的科研領域，尤其適用于大專院校對學生進行示范性試驗。
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    更新日期

    2024-06-21
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  • 全自動氫化儀
    全自動氫化儀，設計溫度500度設計壓力20MPa,進料系統配置稱重模塊閉環控制優化保證HPLC高壓進料不準問題，系統整體容積＜100ml，安全加氫，出料配置1ml定量環采集新鮮樣，氣液分離體積模塊＜10ml設計配合自動排液閥實現無壓力波動高壓自動出料，系統壓力自動控制整個系統配置順控工作流軟件，實現工藝流程全自動24h無人值守
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    2024-06-21
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  • 酯化聚縮反應釜
    酯化聚縮反應釜，設計溫度300度，設計壓力真空到1MPa,配置氣相冷凝模塊除水除醇，下游安裝可視化收集罐，自動真空調節模塊，釜體采用電動升降系統，釜底多股產物出料模塊，并配置熱循環工質系統，系統采用PLC＋觸摸屏控制方案
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    2024-06-21
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  • 三元共沉淀反應釜
    三元共沉淀反應釜是鋰離子電池生產的核心設備，三元前驅體自動控制PH共沉淀反應釜在攪拌、氣體保護、溢流方式等方面均作了進一步的改進。反應料液入釜時混合速度快、分散能力好，元素分布均勻，固溶體均勻性強，球形度好，振實密度等技術指標均達到優級。反應釜釜體大小可以根據需求定制。 釜內可裝載二維或三維攝像頭，實時拍攝材料成型狀況。
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    更新日期

    2024-06-21
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